 Создан новый полимер для рентгеновской литографии |
 |
|
|
Здравствуйте, гость ( Вход | Регистрация )
 Правила форума
 Магазину «Ярче» требуется сотрудник в ночную смену! Достойная оплата от 80 000₽, сменный график. Адрес: ул. Терешковой, 19А. тел. +7-913-770-2931 (Ольга)
 Платные темы только через пользователя РЕКЛАМА НА ФОРУМЕ
 forum@academ.info  Вновь открыта приёмная депутатов и общественников Советского района.
|
  |
| Создан новый полимер для рентгеновской литографии |
|
Отправлено: 03.07.2020, 19:56
 
|
|
|
Патриарх  Группа: Супермодератор Сообщений: 39964 Регистрация: 23.12.2004 Пользователь №: 5815  |
Ученые Новосибирского института органической химии СО РАН (НИОХ СО РАН) синтезировали акрилат-силоксановый гибридный мономер – фотополимерный материал c добавлением кремния, который обладает чувствительностью к синхротронному излучению (СИ) и хорошо подходит для создания сложных микроструктур на твердых подложках методом рентгеновской литографии. Ключевая сфера применения данной технологии – производство микросхем, при этом зачастую используются дорогостоящие импортные полимеры, например, на основе эпоксидной смолы. Новый материал может стать хорошей альтернативой зарубежным аналогам. Эксперименты с использованием СИ, проведенные специалистами Института ядерной физики им. Г.И. Будкера СО РАН (ИЯФ СО РАН), подтвердили его эффективность. Результаты представлены в журнале «Химия высоких энергий".
Читать далее -------------------- Академ.Инфо — информационный портал Академгородка.
|
|
|
|
|
Текстовая версия |
